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上下结构独立控制class100无尘烘箱，CMOS工艺烘烤箱
一．用途:
无尘烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。
二．特点：
1.在普通环境下使用，能够确保烘箱内部等级达到Class 100
2.全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
3.采平面水平由后向前送风后经美国进口H.E.P.A Filter 20"×20"装置往前门(特殊风道设计)方向送风，过滤效率99.99%，Class 100,排气口：３"φ(附自动启闭风门)
4.强制送风循环方式。双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，得到最佳温度控制精度。
三．产品技术参数：
1.无尘等级：Class 100;
2.温度范围： +60～ +250℃；
3.升温速度：常温～+200℃,升温速度>6℃/min ,
4.温度均匀度：±2.5℃;（空载）
5.温度精确度：±1℃（空载）
6.设备型号：
型号
工作室尺寸（mm）
外形尺寸（mm）
加热功率
层板
COL-2D(双腔）
W600×H500×D600
W1655×H1850×D1250
14kw
共2片